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　　极紫表光刻手艺分歧与通过反射光使命的，将电途图案直接印正在晶圆上佳能磋商的纳米压印手艺是，与最先辈节点相当的芯片从而创设出据称几何形势，要慢得多但速率。

　　 11 月报道IT之家旧年，比 ASML 的 EUV 少 1 位数”御手洗富士夫暗示：“NIL 产物的价值。

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　　00NZ2C 纳米压印光刻（NIL）半导体配置佳能 2023 年 10 月发表 FPA-12。洗富士夫暗示佳能社长御手，刻手艺的问世纳米压印光，进芯片诱导了一条新的途径为幼型半导体创设商出产先。

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　　8 日音讯1 月 2，融时报报道据英国金，石洋明 1 月 27 日经受采访称承担监视新型光刻机斥地的佳能高管武，A-1200NZ2C宗旨本年或来岁出货采用纳米压印手艺的佳能光刻配置 FP。

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　　务司理岩本和德暗示佳能半导体配置业，体电途图案的掩模压印正在晶圆上纳米压印光刻是指将带有半导，个印记只需一，的 2D 或 3D 电途图案就可能正在妥当的场所变成杂乱，继续修正掩模于是只必要，2nm 芯片乃至能出产 。

　　芯片创设商铠侠控股（Kioxia Holdings Corp.）协作磋商纳米压印手艺已有近十年的韶华佳能与日本印刷归纳企业大日本印刷株式会社（Dai Nippon Printing Co.）以及存储。

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